SILIZIUMGARTEN ELMOS















Ort:
Dortmund

Bauherr:
Elmos Semiconductor AG

Ausführung:
2001 und 2004
Im Technologiepark Dortmund produziert die Elmos AG mit rd. 500 Mitarbeitern Mikrochips. 2001 wurden in einem ersten Bauabschnitt die Innenhöfe von ungeordneten Abstellflächen in einen Firmengarten umgestaltet. 2004 entstand in Kombination mit einer Kantine auf der Fläche des bisherigen Parkplatzes ein "Siliziumgarten", inspiriert von fernöstlichen Gartenmotiven und von den Grundwerkstoffen der Mikrochipherstellung: Fels, Kies und Sand. Auf den Holzdecks rund um ein langes Wasserbecken finden die Mitarbeiter Pausenplätze.
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